全氟和多氟烷基物质中的前驱体（如6:2 FTSA、PFOSA）虽然本身不是终端产物，但其在环境中可通过氧化或生物转化，生成更为持久和毒性的PFOA和PFOS。因此，在它们进入环境前进行降解是阻断PFASs污染链的关键。传统的·OH高级氧化对这类已高度氧化的分子效果甚微，需要强力的还原手段来攻击C-F键。紫外/亚硫酸盐（UV/SO₃²⁻）高级还原技术，通过光解产生水合电子（e⁻_aq），为降解这类极端顽固的污染物提供了化学上的“剪刀”。
水合电子是已知最强的亲核还原剂之一，其标准还原电位高达-2.9V。在波长为254nm的紫外光照射下，亚硫酸根离子发生光解，产生水合电子和亚硫酸根自由基。水合电子能够选择性地插入C-F键，抽取一个氟原子，引发逐级脱氟的链式反应。本研究以6:2 FTSA和PFOSA为模型前驱体，系统研究了UV/SO₃²⁻体系对其降解和脱氟的效能。实验表明，在无氧、碱性（pH 10-11）条件下，该体系在12小时内可将两种前驱体完全去除，游离氟离子产率达75%以上，证实了大部分C-F键被成功断裂。
LC-MS/MS分析鉴定出了一系列逐级缩短碳链的中间产物，其脱氟路径符合水合电子介导的逐级还原脱氟机理。对于6:2 FTSA，水合电子优先攻击其C-F键而非磺酸基团，逐步将其转化为短链全氟羧酸，最终矿化为F⁻和CO₂。溶解氧是该体系最大的干扰因素，因为O₂是水合电子的强力淬灭剂。因此，反应必须在充分通氮除氧的密闭反应器中进行。水中存在的硝酸盐也会与水合电子竞争，降低目标污染物的脱氟效率。在应用于实际消防泡沫废水和电镀废水时，需根据水质适当增加亚硫酸盐投加量和紫外光照时间，以克服基质干扰。
该技术为水中PFASs前驱体及终端产物的源头削减提供了全新的高级还原策略。与传统高能耗的焚烧或高压反渗透相比，UV/SO₃²⁻技术提供了一种在常温常压下即可摧毁C-F键的温和手段。未来的研究方向包括开发新型高效紫外光源（如UV-LED）以降低能耗，以及探索将高级还原与高级氧化相耦合的“氧化-还原”串联工艺，以实现对复杂PFASs混合污染物的彻底矿化。
